nanoimprintcontinuo

Nanoimprint continuo

La fabricación de nanoestructuras periódicas de gran superficie está limitada a una superficie máxima debido a las técnicas intermedias involucradas. La industria de los semiconductores ha desarrollado procesos para reproducir esas nanoestructuras de forma industrial, pero resultan muy difíciles de adaptar para otro tipo de sectores.

CEMITEC dispone de un sistema de replicación de nanoestructuras sobre soporte flexible en bobinas para cualquier tipo de industria. Las principales ventajas de este sistema son: mayor velocidad de fabricación, posibilidad de escalado a gran superficie y posibilidad de integración en procesos en bobina ya existentes.

  • Fabricación de moldes nanoestructurados
  • Desarrollo de procesos de nanofabricación combinando procesos de impresión digital con procesos de replicación NIL mediante curado UV en bovina (NIL-R2R).

CEMITEC dispone de un sistema a escala de laboratorio con el que investiga aplicaciones en el ámbito de la impresión decorativa y de seguridad, el diagnóstico y la electrónica impresa. Para la fabricación de moldes, CEMITEC cuenta con la técnica de litografía por interferencia mediante Lloyd’s Mirror, que ofrece una forma simple de generar un patrón muy preciso y extenso en un solo paso. Además, dispone de un equipo compuesto por ingenieros, químicos y biólogos, que participan en el desarrollo desde la fase conceptual hasta la fabricación y caracterización de las nanoestructuras.