INFRAESTRUCTURAS Y EQUIPAMIENTO

Deposición de Materiales

deposicion

Laboratorio químico

Aparato de presión de bola
Viscosimetro rotacional MYR con adaptador de bajo volumen termoestabilizado con rango de medición 15-240,000 cPs.
Refactrómetro SELECTA NR-151
Brillometro NOVO GLOSS NG-75
Agitador rotacional Heidolph

Laboratorio de impresión a pequeña escala

Equipo de impresión offset a escala de laboratorio IGT
Equipo de serigrafía manual
Equipo de impresión flexográfica a escala de laboratorio RK K-LOX
Plataforma de impresión inkjet multicabezal
Estufa de ventilación natural BINDER ED-53 25ºC-300ºC
Barras para extensión manual :4,6,15,25,50 y 100 micras
Equipo de secado UV.

Laboratorio de validación de producto

Colorímetros portátiles Xrite y Gretag-Macbeth
Espesctrofotómetro fijo de esfera Xrite
Banco de ensayos y validación electrónica
Banco de seguimiento visual de muestras planas con temperatura controlada
Equipo de ensayo de adherencia por corte por enrejado.
Cámara de comparación de colores

Planta piloto de impresión funcional

Planta Roll-to-roll Edale Lamba para sustratos flexibles con espesores entre 12 y 700 micras. Ancho de webpath 330mm.
Equipo de tratamiento corona VETAPHONE
Equipo de laminación de desarrollo propio
Unidad de impresión de serigrafía rotativa STORK
Unidad de impresión de flexografia EDALE
Unidad de impresión de hueco grabado RK
Unidades de curado por convección, IR y UV.
Chambered doctor blade TRESU.

Laboratorio biosensores y caracterización de nanoestructuras

Plataforma de impression inkjet funcional
Lector de Microplacas
Espectrofotómetro UV-VIS-NIR (190-2500nm)
Microscopio electrónico de barrido/análisis elemental FE-SEM/EDX (Field Emission Scanning Electron Microscopy; Energy-dispersive X-ray spectroscopy)
Equipos de electroforesis horizontal y vertical
Dot-blot
FPLC (Fast Protein Liquid Chromatography)
FTIR (Fourier transform infrared spectroscopy)
Sala Limpia de clase ISO-7

Laboratorio nanolitografía

Spin coater
Interferómetro en configuración Lloyd’s Mirror
Evaporador de materiales E-Beam
Reactive Ion Etching (RIE) con hasta 6 gases diferentes